Tin tức & Sự kiện

近日，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所的纳米真空互联实验站（Nano-X）完成了俄歇电子能谱仪（PHI 710 Auger NanoProbe）安装调试，这也是继PHI XPS之后，Nano-X从ULVAC-PHI公司采购的第二套大型科研仪器。PHI 710俄歇电子能谱仪作为重要的表面分析设备，将与Nano-X的超高真空互联管道对接，进一步完善了Nano-X现有的表面分析设备体系（XPS、TOF-SIMS、SEM、AFM、STM等），将助力推动催化、半导体、微电子器件和冶金等领域研究的发展。       AES功能介绍 俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectroscopy，AES）是利用电子束电离激发原子内层电子，探测退激发过程出射的俄歇电子，获得样品表面组分和化学性质的一种表面分析方法。AES不仅具有表面灵敏的特性，而且具有纳米级的空间分辨能力，因此广泛应用于半导体器件、微电子器件和冶金等科学研究。   PHI 710 Auger NanoProbe的主要功能包括SEM成像、元素成分半定量/化学态分析、一维/二维元素分布、深度剖析及EBSD分析。该设备采用热场发射电子枪，具有稳定细小的电子束斑，SEM成像分辨率≤3纳米，AES成像分辨率≤8纳米；采用CMA同轴分析器，能全方位收集产生的俄歇电子，因此具有不受样品形貌和倾角影响的优点；能量分辨率0.5%~0.1%连续可调，亦能实现高灵敏度和高传输率；采用Ar离子枪实现样品表面清洁、荷电中和以及成分深度剖析；配备电子散射衍射探测器（EBSD），可提供晶体结构和晶格取向的分析。 俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectroscopy，AES）是利用电子束电离激发原子内层电子，探测退激发过程出射的俄歇电子，获得样品表面组分和化学性质的一种表面分析方法。AES不仅具有表面灵敏的特性，而且具有纳米级的空间分辨能力，因此广泛应用于半导体器件、微电子器件和冶金等科学研究。     若想要了解更多，请关注我们公众号“PHI与高德”内含丰富的表面分析技术网络课程 欢迎加入表面分析交流群   Nano-X介绍 纳米真空互联实验站（Nano-X）是世界首个按国家重大科技基础设施标准在建的集材料生长、器件加工、测试分析为一体的纳米领域大科学装置。纳米真空互联实验站通过超高真空管道将各功能设备相互连接，一方面解决了传统超净间模式中难以解决的尘埃、表面氧化和吸附等污染问题，另一方面为微观原子尺度新材料、器件的创新和基于原子级别有序可控的创新思维模式提供了可实现的平台。本实验站由具有若干综合功能的材料制备平台、器件工艺平台、测试分析平台组成。纳米真空互联实验站是材料科学、环境科学、物理学、化学、信息科学等众多学科研究中不可替代的先进手段和综合研究平台，也是微电子、新材料等先进产业技术研发的重要手段。     PHI公司介绍 PHI公司（Physical Electronics）前身为美国PE（Perkin Elmer）公司专业表面分析仪器部门，于2003年被日本真空ULVAC收购，成立ULVAC-PHI。ULVAC-PHI作为全球最专业的表面分析仪器制造商，拥有60余年的表面分析设备研发和生产历史，专注于研发生产表面分析仪器，其产品包括光电子能谱仪（XPS），俄歇电子能谱仪（AES），飞行时间二次离子质谱仪（ToF-SIMS）和动态二次离子质谱仪（D-SIMS）。PHI CHINA致力于为用户提供先进技术和优质服务，与大家携手推动表面分析技术的应用和发展。  

近年来随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子以及半导体产业等领域中开展表面特性研究所必需的实验技术。X射线光电子能谱仪(XPS)作为表面分析领域重要的大型科学仪器，可以提供表面组分和化学态信息，广泛应用于科学研究和高科技产业等领域，对解决复杂问题具有重要的作用。   应清华大学深圳国际研究生院邀请，鞠焕鑫博士做客先进电池材料产业集群大讲堂，开讲X射线光电子能谱第一课。在第一课中鞠焕鑫博士讲解了光电子能谱的基本原理以及技术特点，并介绍了微聚焦扫描型XPS在微区分析和深度分析中的应用。     清华大学深圳国际研究生院材料与器件检测技术中心于2008年成立，2013年通过中国合格评定国家认可委员会(CNAS)认可，2016年通过加拿大标准协会(CSA)授权。检测中心是向校内外科学研究和品质鉴定提供公证、权威测试数据能力的重要机构。目前，检测中心拥有两大技术平台：材料测试分析平台与电池测试平台。各平台拥有完善的检测设备，总价值逾亿元。其中来自ULVAC-PHI公司的扫描聚焦型X射线光电子能谱是谱学平台中非常重要的分析设备，该设备不仅能够满足材料和器件表面成分和价态定性、定量分析，还可以实现微米级别的化学态空间成像以及多种刻蚀模式的深度分析。     您可以通过 技术资料 > 技术视频 回看讲座视频。

工业4.0 (Industry 4.0) 作为一个高科技战略计划，是指利用物联信息系统(Cyber-Physical System简称CPS)将生产中的供应、制造、销售信息数据化、智慧化，最后达到快速、有效、个人化的产品供应，代表着工业生产由集中式控制向分散式增强型控制的基本模式转变，最终将建立一个高度灵活的个性化和数字化的产品与服务的生产模式。但是，实际生产过程与各种业务管理系统协同之后，未来的制造业体系将越来越复杂，其体系中的研发、质量控制和失效分析等环节对于整个物联系统运行的重要性愈加突出。     在工业4.0情境下，现场的操作人员将不同客制化需求，输入至每个产品芯片中，再由在线生产的机器设备通过感应装置读取相关的数据，并根据事先设计好的程序，将生产线自动调整成该产品的制造程序。这样的方式大幅度解决了「大量生产」与「客制化」之间的不协调。在当前激烈的市场竞争下，多品种混线生产模式已经成为很大一部分企业的常态。德国化工大厂巴斯夫(BASF) 已有150年历史，旗下产品涵盖了化学品、塑料品以及石油和天然气等。近年来，巴斯夫与德国人工智能研究中心(German Research Center for Artificial Intelligence)合作，设计以消费者需求为导向的物联网系统。巴斯夫在德国南部小镇凯撒劳顿的智能工厂，是集团客制化产线的研发基地，尽管只有一条生产线，却可以生产出千变万化的洗发水和沐浴露，实现完全客制化，每瓶配方都不尽相同。物联网系统帮助将批量生产转变为混线生产，而且每个生产环节融合了多种分析技术，其中在研发、质量控制和失效分析等环节中采用ULVAC-PHI的光电子能谱仪PHI5000 Versaprobe来进行材料组分和化学态分析，使得整个生产线的运行变得更为高速且有效。   ▲ULVAC-PHI公司的光电子能谱仪PHI5000 Versaprobe   ▲PHI5000 Versaprobe 助力混线生产   ULVAC-PHI公司作为表面分析仪器领域的领导者，拥有行业领先的表面分析技术和产品，可为科学研究和高科技产业中的关键环节提供多层次技术支撑，助力推进工业4.0进程！     *图片与视频来源：BASF   您可以通过 技术资料 > 技术视频 看BASF的宣传视频。

Insight into Nano Depth - New Fraunhofer IPMS X-ray photoelectron spectrometer enables tiny particle analysis   我们正处于信息技术高速发展的时代，其中芯片可谓是人工智能的神经细胞，通过内部数十亿个微小的组件将重要的信息和信号传输给智能设备。现今智能设备内置的半导体芯片，体积越来越小，功能却越来越强大，效率更是越来越高。     由于纳米尺度的表面结构已经无法通过肉眼识别，为了在纳米深度范围内分析硅片表面特性，所以德国弗劳恩霍夫光子微系统研究所（Fraunhofer IPMS）从PHI（德国）公司（Physical Electronics GmbH）采购了一台高性能的硬x射线光电子能谱仪(XPS)。   Fraunhofer IPMS研究所的首席研究员Benjamin Uhlig博士说:“PHI公司新推出的Quantes硬X射线光电子能谱仪可以检测纳米深度范围内的表面特征、薄膜结构和表面污染物，而不会造成任何损害。为了准确分析芯片表面的化学成分，进行纳米深度区域的检测是非常重要的。XPS的这种创新功能使我们能够更好地理解半导体芯片的制造过程，并在未来优化芯片性能上起到关键的作用。"   PHI公司(Physical Electronics GmbH)的硬x射线光电子能谱仪(XPS)  这种新型光电子能谱仪的另一个优点是通用性强。除了使用Al-ka X射线源（1486 eV）进行常规的XPS测量外，我们现在还可以进行往更深层扩展的分析实验。该系统配置了Cr-ka X射线源（5414 eV），可以对Si芯片提供约22纳米的分析深度，这是常规基于Al-ka X射线的XPS探测深度（约7纳米）的三倍。   Uhlig博士说:“通过硬X射线光电子能谱，我们可以很好地分析过渡金属。该系统还可对样品表面进行清洁，也可进行深度剖面分析。此外，还可以原位进行从-120°C到300°C 的样品变温XPS测试分析以及电位接触样品的实验。” 该系统的二次电子影像（SXI）可以对样品上的微小结构进行非常精确的定位 。Fraunhofer IPMS研究所的 硬X射线XPS系统可以用于进行广泛的综合分析。与此同时，Fraunhofer IPMS研究所为世界上各大企业在产品研发中提供了的各种的合作机会。 Fraunhofer IPMS研究所投资了硬x射线光电子能谱仪，作为德国微电子研究项目的一部分。这项投资由联邦教育和研究部资助，旨在促进德国成为科学和技术中心。   背景信息 弗劳恩霍夫光子微系统研究所(Fraunhofer IPMS)位于德国德累斯顿市，为工业制造和自动化以及提高生活质量的医疗技术提供面向未来的解决方案。该研究所拥有超过350名的科学家和工程师，他们分别在光学传感器和执行器、集成电路、无线数据通信和微电子领域展现出了最高水平。 PHI公司（Physical Electronics）前身为美国PE（Perkin Elmer）公司专业表面分析仪器部门，于2003年被日本真空ULVAC收购，成立ULVAC-PHI。ULVAC-PHI作为全球最专业的表面分析仪器制造商，拥有60余年的表面分析设备研发和生产历史，专注于研发生产表面分析仪器，其产品包括光电子能谱仪（XPS），俄歇电子能谱仪（AES），飞行时间二次离子质谱仪（ToF-SIMS）和动态二次离子质谱仪（D-SIMS）。     信息来源: https://www.ipms.fraunhofer.de/en/press-media/press/2020/X-ray-photoelectron-spectrometer.html https://www.ulvac-phi.com/en/company/

近年来随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子以及半导体产业等领域中开展表面特性研究所必需的实验技术。X射线光电子能谱仪作为表面分析领域重要的大型科学仪器，可以提供表面组分和化学态信息，广泛应用于科学研究和高科技产业等领域，对解决复杂问题具有重要的作用。     钙钛矿材料自身具有直接带隙、双极性传输、高吸光系数、低激子结合能、长载流子扩散距离和可溶液加工等特点，近年来取得了突飞猛进的发展。然而，钙钛矿材料光照、电场、温度、水氧等条件下非常容易降解，严重阻碍了钙钛矿太阳能电池的进一步商业化。相比于传统的三维（3D）卤化物钙钛矿太阳能电池材料相比，二维Ruddlesden–Popper（2DRP）层状钙钛矿因其提高的耐湿性、优异光稳定性和热稳定性、超低的自掺杂行为和显著降低的离子迁移效应而大大增强了钙钛矿的光稳定性和热稳定性。2DRP层状钙钛矿稳定性来源于表面有机胺分子的保护作用、低维下钙钛矿容忍因子的有效调控以及由有机胺分子间弱的范德华力和氢键作用主导的层间相互作用。但氢键和范德华力作用力较弱，层状钙钛矿骨架稳定性提升受限，同时，弱相互作用限制了2DRP层状钙钛矿的自组装以及跨层间的电荷传输，从而影响钙钛矿活性层的薄膜质量及光生载流子的分离与传输特性。     针对这一科学难题，西北工业大学柔性电子研究院黄维院士、南京工业大学先进材料研究院陈永华教授和吉林大学集成光电子国家重点实验室/材料学院张立军教授，合作报道了一种高效稳定层状钙钛矿太阳能电池。通过创新性地引入一种含S原子的有机胺，通过S元素之间的相互作用实现层间相互作用有效调控，有效的增强了层间电荷传输并且进一步稳定了层状钙钛矿骨架，制备出了效率高达18.06％（认证效率17.6）的高性能2DRP层状钙钛矿太阳能电池。同时，增强的层间分子相互作用大大改善了2DRP钙钛矿薄膜的湿、热稳定性和器件稳定性，器件在最大功率输出点持续标准太阳光下光照1000小时，效率衰减不到15%。相关成果以题为“Efficient and stable Ruddlesden–Popper perovskite solar cell with tailored interlayer molecular interaction” 发表在Nature Photonics 《自然·光子学》（Nature Photonics 14, 154 (2020). DOI: 10.1038/s41566-019-0572-6）。   层间相互作用机制是本研究工作的重点之一。PHI China实验室的鞠焕鑫博士非常荣幸参与到本项研究工作中，通过高分辨的PHI XPS测试了S 2p、C 1s、N 1s、I 3d和Pb 4f的XPS谱图，研究结果表明了S元素之间的相互，为探究2DRP层状钙钛矿薄膜结晶动力学、稳定性、以及电荷传输特性的影响规律的研究提供了有利数据支撑。     PHI CHINA南京实验室介绍 PHI CHINA南京实验室于2018年12月份成立，致力于为PHI CHINA表面分析设备提供技术支持，同时通过合作方式推进先进表面分析技术在科学研究和高科技产业等领域中的应用。目前，PHI CHINA实验室的XPS系统集成了多项表面分析技术（XPS-UPS-IPES-GCIB）：独具特色的扫描聚焦型XPS可以提供高表面灵敏（   鞠焕鑫博士，曾任中国科学技术大学国家同步辐射实验室副研究员，主要从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究。2018年11月，加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司，担任应用专家，负责 PHI CHINA南京表面分析实验室的创建以及运行管理。在学术研究方面与用户合作在Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, Nature communication，J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater等期刊发表学术论文80余篇。       文章链接：https://www.nature.com/articles/s41566-019-0572-6

PHI CHINA表面分析技术网络讲堂已经成功开办了三期，感谢广大客户及师生一直以来的关注及支持。为了将更多更好的技术分享给大家，本周将开展“飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）”专题讲堂。   飞行时间二次离子质谱仪（Time of Flight-Secondary Ion Mass Spectrometer 简称ToF-SIMS），使用初级脉冲离子入射固体材料表面，通过探测表面激发出的二次离子的飞行时间分辨其质量，以表征材料表面的元素成分、分子结构、分子键接等信息。     第一课：TOF-SIMS基本原理、主要功能和应用 时间：3月19日 15:00 主讲：PHI CHINA资深应用专家鲁德凤女士 1. SIMS的基本原理（包括D-SIMS和TOF-SIMS） 2. TOF-SIMS的主要功能 3. TOF-SIMS在材料分析中的主要应用                   第二课：TOF-SIMS硬件简介、仪器功能及特点 时间：3月20日 15:00 主讲：PHI CHINA主任工程师辛国强先生 1. TOF-SIMS仪器结构及其功能 2. TRFIT 能量分析器原理 3. LMIG离子枪原理 4. 深度剖析离子枪 5. PHI NanoTOF II特性             第三课：TOF-SIMS的样品制备、测试和分析过程演示以及数据分析 时间：待定 主讲：ULVAC-PHI原厂应用科学家张熏匀博士 Presenter: Dr. Zhang Hsunyun, ULVAC-PHI Application Scientist 1. 不同样品不同测试需求的样品制备 2. 样品测试和分析过程的演示 3. 如何使用软件进行数据分析（图谱解析、MAPPING、深度剖析曲线&3D成像等）                               本次为期三天的讲堂将以网络直播结合现场答疑的方式进行，由PHI CHINA资深专家及ULVAC-PHI原厂应用科学家共同为您解析TOF-SIMS系列别样的精彩。疫情尚未结束，学习不能止步。欢迎扫描右边公众号二维码，回复网络讲堂进行报名。请继续关注我们，更多的干货和技术分享，敬请期待。         您可以通过 技术资料 > 应用专区 查阅答疑部分。   您可以通过 技术资料 > 技术视频 回看线上培训课程。

PHI CHINA自2月11日开始通过网络直播的方式，展开为期四周的光电子能谱专题讲座，获得了广泛关注和一致好评。为了满足大家热切的学习需求，PHI CHINA将推出“俄歇电子能谱专题”讲座，为期三天﹕3月11日至3月13日，每天下午三点准时开讲。   3月11日 鲁德风 AES技术基本原理、主要功能和应用 主要内容: AES的基本原理:俄歇电子的产生、主要技术能力;空间分辨、检出限以及定性定量等;俄歇系统的基本构成和能量分析器的特点; AES的主要功能:采谱、线扫描、成像、深度剖析等;冷脆断断面分析、原位FIB+EDS+BSE+EBSD全方位成分表征; AES的主要应用:纳米材料、金属、半导体、催化材料、能源电池、太阳能光伏、膜层结构剖析等。   3月12日 辛国强 AES硬件简介、仪器功能及特点 主要内容﹕ 系统结构 真空系统 能量分析器基本原理 电子枪及电子探测器 离子枪基本原理 俄歇仪器功能及特点   3月13日 叶上远 AES样品准备，数据采集和解说 主要内容﹕ 对于不同的分析目的，如何做相对应的样品制备 简单的俄歇图谱解释，原图和微分谱与定性/定量分析 如何使用软件和俄歇手册处理重叠峰 俄歇峰背景扣除 线扫和面扫数据分析 如何使用LLS进行深度分析数据处理 从导体到半导体俄歇分析，以及分析中电荷中和的方法   此次讲堂继续延用网络直播的形式，现场答疑。   PHI CHINA在表面分析领域多年深耕，专注表面分析的发展与科 研，希望本系列讲堂能帮您丰富知识，提升技能，与大家携手进一步推动表面分析技术的蓬勃发展。若您对课程安排或技术方面有任何疑 问，欢迎在微信公众号给我们留言。 更多资讯，请关注微信公众号﹕PHI与高德，我们将不定期共享更多资料，为您在科研道路上助力。     您可以通过 技术资料 > 应用专区 查阅答疑部分。   您可以通过 技术资料 > 技术视频 回看线上培训课程。

3月6日，随着最后一堂课程的完成，「PHI CHINA表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题」圆满落下帷幕。   在这个特殊的时期，为了让广大师生更好地掌握关于表面分析技术中常用的光电子能谱技术并利用MultiPak软件进行数据处理，PHI CHINA打破了往年常规的现场培训模式，首次开启了网络直播课程，使不同地区的师生及客户通过居家在线学习的方式积极参与到PHI CHINA的培训课程中来。     从2月20日起，历时三周，以“专题授课+答疑交流”为原则，以「理论+实践」为基础，PHI CHINA专业讲师在线相继开授了XPS基本原理&技术特点&应用、UPS/LEIPS基本原理&技术特点&应用、光电子能谱谱仪功能结构及特点、样品制备&传输操作和数据采集注意事项、MultiPak软件数据处理等课程，为听众们详细剖析了光电子能谱知识。在每一堂网络课程中，讲师还设立了专门的答疑环节，让大家能够了解得更加透彻，提升学习效率。该系列培训课程受到了师生、客户的广泛关注和一致好评。   本次线上讲堂不仅创新了学习方式，还解决了防疫期间不宜集中学习的难题，实现了居家学习两不误，同时也巩固和提升了大家的专业知识，取得了良好的效果。在此PHI CHINA诚挚感谢广大师生、客户以及辛勤付出的培训讲师对于此次网络课堂的全力支持和参与。今后，PHI CHINA还将不断创新服务模式，举办更多培训和交流活动，为广大师生、客户做好服务。也希望关注PHI CHINA的诸位朋友都能在防疫期间保护好自己及家人的身体健康，让我们共同期待春天的来临！   如有任何培训及技术交流方面的需求，欢迎大家在文末和后台留言。   PHI CHINA温馨提示 “3月11日-13日将开讲 – AES”  「俄歇电子能谱专题」   您可以通过 技术资料 > 技术视频 回看线上培训课程。

有关Physical Electronics (PHI) 的简介视频现已发布！   你可以透过以下连接去观看影片： Youtube : https://youtu.be/dfqg8LmVYNI Youku : https://v.youku.com/v_show/id_XNDU2NjA5MjYwOA==.html

继上期面向PHI用户的表面分析技术网络讲堂的成功举办，本期面向高校师生的网络讲堂也如约而至，在今天（2月20日）为小伙伴们开讲了第一课，共有来自90多所高校和科研院所的千余名师生参加。在接下来的三周，将有更精彩的内容呈现给大家，让我们一起来探索表面分析的世界！   当前新型冠状病毒疫情防控工作正处于关键时期，疫情防控关乎每个人的生命健康，为减少公众交叉感染和降低传播风险，高校都已经宣布推迟春季学期开学。虽然现在只能宅在家里，但是疫情是暂时的，学习是长远的，待到春暖花开时，小伙伴们就可以奔赴科研战线，攀登科学的高峰！ X射线光电子能谱仪作为表面分析领域重要的大型科学仪器，广泛应用于科学研究和高科技产业等领域。ULVAC-PHI独具特色的扫描聚焦型XPS可以提供高表面灵敏（   X射线光电子能谱（XPS）已经是材料分析中离不开的利器，但是小伙伴们对测试和数据分析还是有些疑问，样品怎么准备，如何进行微区分析，深度分析中膜厚怎么计算，数据如何拟合，UPS功函数如何计算，如果测试导带和带隙，测试得不到满意结果...您是不是也有类似的困惑？为了帮助小伙伴们深入了解XPS的功能特点和数据解析，让XPS助力提升科研工作，本期光电子能谱专题之网络讲堂面向科研一线的师生，将详细讲解光电子能谱的基本原理、仪器结构、实验技术以及数据处理，网络讲堂具体安排如下：   课程 课程时间 课程内容 1 2020/02/20 15:00 基本原理：XPS基本原理、技术特点及应用(1) 2 2020/02/21 15:00 基本原理：XPS基本原理、技术特点及应用(2) 3 2020/02/26 15:00 基本原理：UPS/LEIPS基本原理、技术特点及应用 4 2020/02/27 15:00 仪器结构：光电子能谱谱仪功能结构及功能特点 5 2020/02/28 15:00 实验技术：样品制备、传输操作和数据采集注意事项 6 2020/03/03 15:00 数据处理：数据处理原则和MultiPak软件功能概述 7 2020/03/05 15:00 数据处理：利用MultiPak软件进行数据处理(1) 8 2020/03/06 15:00 数据处理：利用MultiPak软件进行数据处理(2)   如果您对光电子能谱或者其他表面分析技术感兴趣，欢迎您关注我们公众号，我们会持续为您呈现精彩内容，让我们一起来探索表面分析的世界！   您可以通过 技术资料 > 技术视频 回看线上培训课程。